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分类：磁控溅射

磁控溅射是物理气相沉积的一种！

2020-09-03

磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多！磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发

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本底真空对磁控溅射的影响

2020-08-27

磁控溅射，磁场操控的二级溅射。原理是将靶材周围的气体电离化，构成等离子体，在等离子体环境中溅射进程。归于气体放电领域。优质的膜层需求操控膜层的安稳性和均匀性，而体现在操控方面，则表现为：磁场、气场、电源。1.磁场的安稳：靶芯的磁场的均匀性。

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磁控溅射镀膜仪有没有辐射？

2020-08-19

磁控溅射仪当然有辐射，1、可见光波段：阴极发射的电子电离介质气体分子，分子/原子光谱。这些光密度不大，不至于刺伤钛合金狗眼.属于无害辐射。2、不可见光波段：阴极发射的电子电离介质气体分子，红外/紫外，分子/原子光谱。紫外辐射有害3、X射

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本底真空对磁控溅射的影响？

2020-08-12

磁控溅射，磁场操控的二级溅射。原理是将靶材周围的气体电离化，构成等离子体，在等离子体环境中溅射进程。归于气体放电领域。优质的膜层需求操控膜层的安稳性和均匀性，而体现在操控方面，则表现为：磁场、气场、电源。1.磁场的安稳：靶芯的磁场的均匀性。

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关于磁控溅射镀膜系统的操作规范

2020-07-21

磁控溅射镀膜系统的操作规范：1.正常工作的磁控溅射镀膜系统在开动时，需要先将水管打开，在磁控溅射镀膜系统运行之中要时刻注意水压的状态；2.在离子轰击和蒸发时，要特别注意线路方面的情况，不得触动高压线头，以防触电；3.在用磁控溅射镀膜系统的电

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浅析磁控溅射镀膜工艺的概念及分类

2020-07-21

溅镀，通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法。该工艺使用磁控溅射镀膜系统要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材（阳极）和金属靶材（阴极）之间加上高压直流电，由于辉光放电(

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本底真空对磁控溅射的影响

磁控溅射镀膜仪有没有辐射？

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关于磁控溅射镀膜系统的操作规范

浅析磁控溅射镀膜工艺的概念及分类